中頻磁控濺射是磁控濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象；減弱靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數倍。

l  沉積速率高，生產效率高；

l  工作穩定，在靶材的壽命內，可以實現長期穩定的運行

l  膜層結構致密，表面光滑，有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度，滿足了高性能膜層制備的需求。

        中頻磁控濺射鍍膜廣泛應用于鐘表首飾、廚衛潔具、日用五金、電子產品、汽車配件等的裝飾膜，以及發動機用耐磨零件、刀具、模具等表面高硬度、抗磨損、抗腐蝕性膜的制備。

可制備TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等金屬化合物膜層，可鍍制金色、玫瑰金、仿金、咖啡色、槍黑色、銀白色、紫色、黑色、七彩色等顏色。

備注：設備可根據客戶要求定制。