該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，主要用于各大院校及科研單位，可滿足多種實驗要求，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。
     1、留多種結構靶位，靈活配置，以滿足不同領域的科研開發(fā)；
     2、可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統、三維夾具等裝置；
     3、膜層結構穩(wěn)定，附著力強，致密性好，工藝可重復性好；
     4、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護；
     5、外形美觀、結構緊湊、占地面積小。
     可鍍基體材料：黃銅、鋅合金、不銹鋼、陶瓷、玻璃、塑料、陶瓷等；
     主要膜系：金屬層如鈦、鉻、銀、銅或金屬化合物膜層，如TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等。
     主要顏色：金色系列、玫瑰金、咖啡色、銀白色、槍黑色、藍色、七彩色等。
     備注：設備可根據客戶要求定制。