設備采用真空冷陰極弧光放電技術，一個真空腔室內(nèi)放置多個離子弧源，根據(jù)真空腔室的大小可以設有2、4、6、8、24、40個或更多弧源，這些弧源按照一定的方式排列，可以一次均勻鍍制批量產(chǎn)品，提高產(chǎn)能。
     1、離化率高，入射粒子能量強，膜的附著力都很高，膜層質(zhì)量好；
     2、沉積速率快，鍍膜效率高；
     3、弧源可任意方向安置，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性；
     4、設備結(jié)構(gòu)簡單，適用于各種形狀工件的鍍膜；
     5、工作電壓低，運作安全；
     6、使用范圍廣，可制備金屬膜、合金膜、化合物膜和多層膜，顏色豐富。
多弧離子鍍廣泛應用于手表、手機、飾品、日用五金、潔具、燈飾等的裝飾膜，以及發(fā)動機用耐磨零件、刀具、模具等表面高硬度、抗磨損、抗腐蝕性膜的制備。
     可制備TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等金屬化合物膜層，可鍍制金色、玫瑰金、金黃色、咖啡色、槍黑色、銀白色、七彩、紫色、黑色等顏色。
     備注：設備可根據(jù)客戶要求定制。